【摘 要】
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运用吸附吡啶的TPD法考察了焙烧温度和预处理剂对TS-1分子筛表面酸性的影响.结果表明,TS-1分子筛表面主要存在两种酸性中心,对应的脱附峰温度(Tm)分别为480～500 ℃和618～627 ℃
【机 构】
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华东理工大学,华东理工大学,燕山石油化工公司
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运用吸附吡啶的TPD法考察了焙烧温度和预处理剂对TS-1分子筛表面酸性的影响.结果表明,TS-1分子筛表面主要存在两种酸性中心,对应的脱附峰温度(Tm)分别为480～500 ℃和618～627 ℃.前者为弱酸中心,由分子筛骨架Ti(Ⅳ)形成,在苯的羟基化反应中起活化H2O2的作用;后者为强酸中心,由不稳定的Si-OH基团形成,是导致反应产物深度氧化的主要原因.随着焙烧温度的升高,弱酸中心逐渐增多,强酸中心逐渐减少.由于不同的预处理剂具有不同的酸性,会不同程度地引起骨架中Ti(OSi)3(OH)和Ti(OS
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