【摘 要】
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利用电化学测试技术、扫描电镜（SEM）及X射线能谱（EDS）对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究。实验结果表明：在50μg／g Cl^-的KCl溶液中，铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀
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利用电化学测试技术、扫描电镜（SEM）及X射线能谱（EDS）对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究。实验结果表明：在50μg／g Cl^-的KCl溶液中，铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位，铌镀层对贫铀是阴极性镀层，对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用；镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀，腐蚀电流远小于贫铀，铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能；镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀，并由孔蚀向电偶腐蚀转变。
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