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欧洲研发机构IMEC首席运营官Luc Van den Hove表示，IMEC将在2010年上半年制预投产EUV（极紫外）光刻设备。按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的合理性尚存疑问，然而IMEC认为光学光刻无法满足22nm制程。因此，EUV是唯一的选择。2006年8月IMEC从ASML处获得一台原型设备，并在这台原型设备上开发EUV设备。