原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

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【摘要】

：

原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和

【作者】

：

陈献忠姚汉民陈旭南李展陈元培高洪涛石建平

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

【出处】

：

光电工程

【发表日期】

：

2004年1期

【关键词】

：

原子光刻超高真空蒸发设备设计原子光学微细加工技术 Atom photolithography Vacuum evaporation System

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原子光刻是原子光学在微细加工技术领域的新应用.在对各种材料和真空泵性能综合考虑的基础上,设计并建立了一台用于原子光刻的超高真空蒸发设备.主要设计参数为:极限真空度和工作真空度分别为2.0×10-6 Pa 和1.0×10-5 Pa,原子源温度在300～1850℃范围内连续可调.初步运行结果表明极限真空度优于设计参数,温度连续可调.

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