使用我国战略性新兴产业上市企业的相关数据,基于空间异质性和非线性的双重视角,运用Hansen面板门槛回归技术探讨了研发投入强度对技术效率影响的内在机理。结果表明:研发投入强度对技术效率的影响不是简单的线性效应,而是呈负向门槛效应和边际效率递减的非线性特征;研发投入强度与技术效率之间的非线性关系具有显著的空间差异,中西部地区和全国情况基本一致,而东部则呈明显的U型关系,且其最优研发投入强度区间是0.54%~2.80%;进一步考察发现:在资本结构门槛下,研发投入强度与技术效率之间呈明显的倒U型关系,且其最优资本结构区间为33.87%~65.07%,而在东中西部地区依次呈显著的N型、倒N型和倒N型关系;在资本密度门槛下,研发投入强度与技术效率之间具有显著的倒U型关系,且当资本密度小于3.29%时,研发投入强度对技术效率的促进效应最大,但在东中西部地区分别呈现明显的负向、U型、倒U型关系。