提高半导体器件欧姆接触可靠性的扩散阻挡层及其应用

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为了提高半导体器件欧姆接触的可靠性,一般要在金属化系统中加扩散阻挡层。文中介绍了扩散阻挡层的种类及其特性,并进行了比较和讨论。最后给出了在实际成功应用的例子。 In order to improve the reliability of the ohmic contact of semiconductor devices, a diffusion barrier is generally added in the metallization system. In this paper, the types and characteristics of diffusion barriers are introduced and compared and discussed. Finally, examples of successful applications are given.
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