准一维纳米材料场致电子发射新理论研究

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在飞速发展的纳米技术支撑下,近年来基于一维纳米材料的冷阴极场致电子发射研究和应用研发获得丰富的成果.相应的理论研究也不断深入,同时也发现一些新的理论问题亟待解决.简要回顾传统场致电子发射理论的主要内容之后本文将介绍一维纳米材料冷阴极场致电子发射理论研究的一些进展,重点在碳纳米管的尖端势垒和场发射图像,以及宽带隙纳米线场发射机制.关于宽带隙纳米线场发射,我们着重介绍了一个双电流模型.该模型假定纳米线表面存在定域态,在外电场下这些定域态能够把电子转移到纳米线尖端,在尖端形成积累层,场发射电流由表面定域态中的跳
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氧化铝陶瓷在成型、烧成以及机加工等过程中都会或多或少的产生一些微观缺陷,分析了几类常见微观缺陷,提出避免缺陷产生的相关措施.
首先回顾了场发射阴极材料的发展历程,然后介绍了场发射技术的发展过程、包括器件结构和工作原理,讨论了目前这项技术所面临的问题,着重介绍了近年来国内外在场发射显示技术