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期刊论文
等离子体化学气相沉积超硬薄膜
等离子体化学气相沉积超硬薄膜
来源 :上海金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户:eadead1981
【摘 要】
:
本文简述了PCVD技术的原理、特性、设备。并对其制备的TiN、TiC、Ti(C_xN_y)超硬膜进行了显微硬度和化学成份等分析,最后介绍了该项技术在冷挤压冲头上的应用实例。
【作 者】
:
张学农
蒋邵志
【出 处】
:
上海金属
【发表日期】
:
1992年5期
【关键词】
:
等离子体
化学气相沉积
超硬薄膜
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本文简述了PCVD技术的原理、特性、设备。并对其制备的TiN、TiC、Ti(C_xN_y)超硬膜进行了显微硬度和化学成份等分析,最后介绍了该项技术在冷挤压冲头上的应用实例。
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