MOCVD制备的Pt/C薄膜的结构与性能研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：simplyblue

【摘要】

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以乙酰丙酮铂为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)法在石英及YSZ基体上制备Pt/C薄膜,研究了Pt/C薄膜的结构和电化学性能.沉积过程中通入一定量的氧气可以大幅降

【作者】

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胡昌义戴姣燕方颖欧阳远良闫革新刘伟平程勇

【机构】

：

昆明贵金属研究所

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2006年4期

【关键词】

：

MOCVD Pt/C薄膜成分结构性能 CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION PLATINUM FILMS IRIDIUM GROWTH

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以乙酰丙酮铂为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)法在石英及YSZ基体上制备Pt/C薄膜,研究了Pt/C薄膜的结构和电化学性能.沉积过程中通入一定量的氧气可以大幅降低Pt/C薄膜中的含C量,含C较高的Pt/C薄膜的XRD谱线低而宽,具有非晶态衍射特征.在500℃测量温度下,以Pt/C薄膜为电极的YSZ氧气浓差电池的电动势及电流输出高于传统的Pt电极.

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