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通过计算室温下含硅过饱和钙磷沉积液（SSCPS）中可能形成的各沉积相的过饱和度，对仿生制备含硅羟基磷灰石（Si—HA）的热力学条件进行了分析。结果表明：羟基磷灰石（HA）过饱和度最大；且当pH〈8时，硅不具备以偏硅酸盐形式存在的热力学条件，从而表明SSCPS具备仿生制备Si—HA涂层的热力学可能性。在SSCPS中通过浸泡，在钛表面仿生制备了Si—HA涂层，其Si含量在0．14at％～1．14at％，实验验证了热力学分析的正确性：还跟踪了仿生沉积过程pH值变化。