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有机高分子材料是一类重要的文物保护材料,但由于自身稳定性的限制,在紫外线照射下常发生光老化现象。因此,利用光稳定剂对其进行改性,对高性能文物保护材料的研制具有重要意义。综述了有机高分子文物保护材料的光老化机理和紫外线吸收剂、受阻胺、纳米光屏蔽剂3类常用稳定剂的稳定机理,并阐述了其在文物保护材料改性中的应用。