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以十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）为模板剂，正硅酸乙酯（TEOS）为硅源，在极稀溶液、室温、大量氨水体系中，采用水热沉积法制备了MCM-41介孔薄膜，通过X射线衍射（XRD）、透射电镜（TEM）、红外光谱（IR）和Roman光谱等技术表征了其结构．XRD测试表明，合成的薄膜具有MCM-41介孔结构特征，基底的性质对介孔薄膜的生长有一定程度的影响．TEM图像对介孔薄膜晶胞参数的估算基本与XRD结果吻合，表明制备的薄膜均匀，有一定取向性且孔道平行于基底表面．对单晶硅基底上生长的MCM-41介孔薄膜的光学性能考