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光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求。文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520hm～1580hm范围增透膜的应用。讨论了膜料的选择、膜系的设计以及镀制过程中光学监控的工艺参数，制备出了光学性能较好的薄膜。
离子束辅助沉积红外增透薄膜工艺
【摘 要】
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光纤接入网络的快速发展对光纤传输的光学性能方面提出了严格的要求。文中阐述了电子束离子辅助沉积系统在室温下镀制光纤端面近红外1520hm～1580hm范围增透膜的应用。讨论了膜
【机 构】
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长春理工大学光电工程学院
【出 处】
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长春理工大学学报(自然科学版)
【发表日期】
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2008年2期
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