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通过反应磁控溅射制备了一系列不同Si3N4层厚的TiN／Si3N4纳米多层膜，利用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜、扫描电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和硬度，研究了其硬度随Si3N4层厚微小改变而显著变化的原因．结果表明，在TiN调制层晶体结构的模板作用下，溅射态以非晶存在的Si3N4层在其厚度小于0．7nm时被强制品化为NaCl结构的赝晶体，多层膜形成共格外延生长的{111}择优取向超晶格柱状晶，并相应产生硬度显著升高的超硬效应，最高硬度达到38．5GPa．Si3N4随自身层厚进一步的微小