微型双岛硅膜制作中的削角补偿方法研究

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针对微型双岛硅膜制作中的凸角削角腐蚀问题,提出了一种新的削角补偿方法一“两端矩形补偿法”,并在感压膜尺寸仅为0.72mm×1mm的双岛硅膜制作中获得成功。 Aiming at the problems of corroded chamfer corrosion in the fabrication of miniature double island silicon films, a new method of chamfer compensation, a “two-end rectangle compensation method”, is proposed. In the case of the pressure sensitive film with a size of only 0.72mm × 1mm Island silicon film production success.
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