Fe-Ni合金薄膜的结构和磁性

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用射频磁控溅射制备了Fe_Ni薄膜 ,研究了薄膜成分、溅射条件及热处理温度对薄膜结构和磁性的影响 .通过选择适当的溅射条件和热处理温度 ,可得到适合于磁头材料应用的高饱和磁化强度的Fe_Ni软磁薄膜 . The effects of film composition, sputtering conditions and heat treatment temperature on the structure and magnetic properties of the films were investigated by RF magnetron sputtering. The suitable sputtering conditions and heat treatment temperature were selected to suit the application of magnetic head Saturated magnetization of Fe_Ni soft magnetic film.
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