【摘 要】
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对钨基材料表面上射频磁控溅射沉积的碳膜进行了氩离子和氮离子的辐照，并作了XRD及XPS的分析。分析结果表明，不同离子辐照引起碳膜微结构的变化亦不同。氮离子辐照不仅使碳膜元
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对钨基材料表面上射频磁控溅射沉积的碳膜进行了氩离子和氮离子的辐照，并作了XRD及XPS的分析。分析结果表明，不同离子辐照引起碳膜微结构的变化亦不同。氮离子辐照不仅使碳膜元素与基体元素发生混合，而且导致碳膜发生相变，生成碳-钨化合物，如α-W2C、WCx，同时氮离子本身与钨反应生成氮-钨化合物，如α-WN。氮离子辐照使无定形的碳膜中的生成相发生晶化，晶化的碳-钨化合物相、氮-钨化合物相的含量随氮离子辐照剂量的增加而提高。氩离子辐照却无此诱发作用，但发现氩离子辐照可有效消除氧的污染。随着氩离子剂量的增加，碳膜中污染氧的含量也随之减少。同时对有关机理作了相应的探讨。
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