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综述了等离子体化学气相沉积法(PCVD)的特点,等离子体对化学气相沉积的作用,PCVD精细陶瓷薄膜制备系统的结构和选择,并展望了该法的发展及在精细陶瓷薄膜制备中的应用。
PCVD法制备精细陶瓷薄膜
【摘 要】
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综述了等离子体化学气相沉积法(PCVD)的特点,等离子体对化学气相沉积的作用,PCVD精细陶瓷薄膜制备系统的结构和选择,并展望了该法的发展及在精细陶瓷薄膜制备中的应用。
【机 构】
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武汉工业大学
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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1993年4期
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