LICVD制备纳米硅粉

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为了获得纯净纳米结构的单质硅粉,采用激光诱导硅烷(SiH4)化学气相沉积(LICVD)法进行制备。利用X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)等进行检测,研究了纳米硅粉的显微组织、相结构、成分及不同工艺参数的影响。研究结果表明,反应气体流量、激光功率、反应气体硅烷含量对制备纳米硅粉的粒径及结晶状态有很大影响:反应气体流量越大,粉体粒径越小且结晶越不完全;激光功率越大,粉体粒径越小,结晶状态越趋向于晶态;反应气体硅烷含量越大,粉体粒径越小且结晶状态越趋于晶态。
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