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采用直流磁控溅射的方法，在Ｓｉ（１１１）基片上沉积ＡＩＮ（１００）面择优取向薄膜，研究了溅射功率对ＡＩＮ薄膜结构及表面粗糙度的影响。结果表明，随着溅射功率的增加，沉积速率增大，但薄膜结构择优取向度变差，表面粗糙度增大，这说明要制备择优取向良好、表面粗糙度小的ＡＩＮ薄膜，需选择较小的溅射功率。
氮化铝薄膜结构和表面粗糙度的研究
【摘 要】
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采用直流磁控溅射的方法，在Ｓｉ（１１１）基片上沉积ＡＩＮ（１００）面择优取向薄膜，研究了溅射功率对ＡＩＮ薄膜结构及表面粗糙度的影响。结果表明，随着溅射功率的增加，沉积速率增大，但薄膜结构择优取向度变差，表面粗
【机 构】
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西安交通大学,山西师范大学
【出 处】
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稀有金属材料与工程
【发表日期】
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2000年6期
【基金项目】
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国家自然科学基金!(2 97410 0 4),山西省自然科学基金
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