截止波长12μm的InAs_0.04Sb_0.96/GaAs的熔体外延生长及特性研究

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用熔体外延(ME)法在半绝缘(100)GaAs衬底上成功生长出了截止波长为12μm的InAS0.04Sb0.96外延层。傅立叶变换红外(FTIR)透射光谱揭示,InAsSb合金的禁带宽度被强烈变窄。通过分析InAS0.04Sb0.96外延层载流子浓度的温度依存性表明,其室温禁带宽度为0.1055eV,与透射光谱测得的数值很好地一致。通过测量12-300K的吸收光谱,研究了InAS0.04Sb0.96/GaAs的禁带宽度的温度依存性。霍尔测量得出300K下样品的电子迁移率为4.47×100cm^2
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