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紫外写入法制造光纤光栅对光源时空相干性的要求
紫外写入法制造光纤光栅对光源时空相干性的要求
来源 :光电子·激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cugll2008
【摘 要】
:
为了解决掩模板+紫外写入法制造光纤光栅时紫外光源的选取问题,本文详细讨论了衍射场的反衬度与紫外光源时间和空间相干性的关系。针对掩模板紧贴光纤和掩模板后放置一对平面镜
【作 者】
:
陶振宁
吴德明
【机 构】
:
北京大学电子系,北京100871
【出 处】
:
光电子·激光
【发表日期】
:
2000年3期
【关键词】
:
时空相干性
光纤光栅
紫外写入法
光源
interference Bragg grating phase ma sk
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为了解决掩模板+紫外写入法制造光纤光栅时紫外光源的选取问题,本文详细讨论了衍射场的反衬度与紫外光源时间和空间相干性的关系。针对掩模板紧贴光纤和掩模板后放置一对平面镜再放光纤这两种情况进行了讨论,前一方法对光源的时、空间相干性要求低,相比之下,后一方法要求高两个数量级。
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