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在磁控溅射仪上用直流Ce和W共同磁控溅射方法，在载玻片上沉积Ce掺杂的WO3薄膜，以研究溅射功率对该薄膜电学性质的影响．薄膜在550℃的空气中退火1h，用X射线衍射和扫描电子显微镜分析薄膜的显微结构．结果表明：Ce掺杂后薄膜呈岛状结构生长，有利于薄膜沿b轴方向生长；当Ce和W的溅射功率分别为40w和160W时，薄膜的非线性系数最大，达到7．92．