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随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟.并对模拟结果进行分析比较.从而对氧化、扩散工艺操作过程有直观的了解,避免了复杂的工程计算.
SUPREM-Ⅲ进行集成电路氧化一扩散工艺模拟
【摘 要】
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随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟.并对模拟结果进
【机 构】
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沈阳
【出 处】
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微计算机信息
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
：
辽宁省教育厅资助项目
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