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介绍化学机械抛光技术的重要性，找出影响其性能的关键冈素即为研磨料。然后对常用的研磨料种类做概要论述，找出其优缺点。并在前人研究的基础上研制出更具优势的抛光研磨料，详细介绍其特点及使用条件，另对它的使用效果进行了简要说明。
新型CMP用二氧化硅研磨料
【摘 要】
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介绍化学机械抛光技术的重要性，找出影响其性能的关键冈素即为研磨料。然后对常用的研磨料种类做概要论述，找出其优缺点。并在前人研究的基础上研制出更具优势的抛光研磨料，详细
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所
【出 处】
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无机硅化合物（天津）
【发表日期】
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2007年4期
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