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利用直流电沉积法，在碳素钢和铜基体上沉积Ni膜，以及在碳素钢基体上沉积Cu膜。用自行设计的原位弯曲阴极测量装置，测量了不同基体上不同薄膜的内应力。实验表明，原位弯曲阴极法比普通悬臂梁法更精确、简便。薄膜材料的内应力与基体材料有关。碳素钢基体和纯铜基体上沉积的Ni膜内应力随膜厚呈相反的变化趋势。碳素钢基体上电沉积Cu膜的内应力随膜厚的增加而降低；而碳素钢基体上电沉积Ni膜的内应力随膜厚的增加而增大，但当膜厚增大到一定程度时，内应力变化平缓。