【摘 要】
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利用循环伏安法和阶跃电位法研究铜微电极在ＨＣｌ和Ｈ２ＳＯ４溶液中的点腐蚀行为．结果表明，Ｃｕ在ＨＣｌ和Ｈ２ＳＯ４溶液中腐蚀机理不同．Ｃｌ－对Ｃｕ氧化膜具有破坏作用．Ｃｕ在０．１ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４溶液中的Ｉｔ曲线的初始部分呈性关系，为动力学控制．
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【机 构】
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江西师范大学化学系,夏门大学化学系
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利用循环伏安法和阶跃电位法研究铜微电极在ＨＣｌ和Ｈ２ＳＯ４溶液中的点腐蚀行为．结果表明，Ｃｕ在ＨＣｌ和Ｈ２ＳＯ４溶液中腐蚀机理不同．Ｃｌ－对Ｃｕ氧化膜具有破坏作用．Ｃｕ在０．１ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４溶液中的Ｉｔ曲线的初始部分呈性关系，为动力学控制．
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