【摘 要】
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采用电化学试验等方法,研究了施镀时间对Ni-W-P合金镀层的沉积速率、孔隙率、腐蚀速率、电化学性能等的影响。结果表明：施镀时间为40min时,Ni-W-P合金镀层沉积速率较高,厚度较
【机 构】
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四川理工学院材料科学与工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室
【基金项目】
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四川理工学院大学生创新创业训练计划项目(201610622050);材料腐蚀与防护四川省重点实验室科研基金(2014CL20)
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采用电化学试验等方法,研究了施镀时间对Ni-W-P合金镀层的沉积速率、孔隙率、腐蚀速率、电化学性能等的影响。结果表明：施镀时间为40min时,Ni-W-P合金镀层沉积速率较高,厚度较厚,为12μm,表面平滑光亮,结合力良好,孔隙率最低,为0.25个·cm-2,镀层的耐腐性最好。同时,此时镀层的维氏硬度高,为155 HV,镀层组织结构紧密均匀,由非晶态和微晶构成混晶结构,非晶态结构的出现是其耐蚀性高的重要原因。
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