【摘 要】
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本文采用磁控溅射法在热氧化硅基片上生长FePt颗粒薄膜。利用MgO籽层来引发FePt合金薄膜的fct织构,采取加入C的方法来减小其颗粒尺寸。采用X射线衍射仪(XRD)、超导量子干涉仪
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本文采用磁控溅射法在热氧化硅基片上生长FePt颗粒薄膜。利用MgO籽层来引发FePt合金薄膜的fct织构,采取加入C的方法来减小其颗粒尺寸。采用X射线衍射仪(XRD)、超导量子干涉仪(SQUID)和透射电镜(TEM)对FePt颗粒进行表征,结果表明制备的样品具有优良的L10相结构,其磁滞曲线表明方形度很好,而且垂直矫顽力能有12 kOe,颗粒大小为8 nm。该磁性薄膜非常适合用做下一代高密度磁存储媒质,能大幅度提高磁存储密度。
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