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本文介绍了一台新型等离子体增强液态源MOCVD系统。系统由液态源汽化装置、反应室、等离子体产生装置、真空系统及自动控制系统等主要部分组成。该系统采用了由超声雾化器和加热腔组成的液态源汽化装置，将液态源转变成气态供给反应室沉积薄膜。为了提高金属有机物的化学反应活性，在有布气盒结构的反应室基础上，引入了射频等离子体。真空控制采用了由蝶阀、真空规和机械增压泵组成的闭环控制系统。自动控制系统的设计基于PLC和触摸屏，通过触摸屏完成工艺参数设置及实时数据显示，通过PLC完成系统控制。使用该液体输送MOCVD系统在P