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甲基磺酸盐电镀银工艺是现代无氰电镀银研究的一种重要方法。主要研究了以甲基磺酸和硝酸银为主盐的体系时,添加辅助络合剂对镀层物相的影响。结果表明：加入辅助络合剂可以有效地提高电流效率,且镀层表面无杂相,在该体系中最佳电流密度0.2 A/dm^2,Ag^＋浓度为0.18 mol/L。
辅助络合剂对无氰电镀银镀层的影响
【摘 要】
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甲基磺酸盐电镀银工艺是现代无氰电镀银研究的一种重要方法。主要研究了以甲基磺酸和硝酸银为主盐的体系时,添加辅助络合剂对镀层物相的影响。结果表明：加入辅助络合剂可以有
【机 构】
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郑州炜盛电子科技有限公司,河南省科学院化学研究所有限公司
【出 处】
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河南化工
【发表日期】
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2017年6期
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