FeZrBCu射频溅射薄膜磁导率和巨磁阻抗效应的研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yesyouok

【摘要】

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采用射频溅射法在单晶硅衬底上制备了（Fe0.88Zr0.07B0.05）97Cu3薄膜样品。X射线衍射结果表明，未经任何后期处理的沉积态薄膜为非晶态结构。在5kHz～13MHz频率范围内，着重研究了沉积

【作者】

：

陈卫平萧淑琴冯尚申刘宜华

【机构】

：

浙江台州学院物理系,山东大学物理与微电子学院

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2007年4期

【关键词】

：

沉积态薄膜有效磁导率巨磁阻抗磁各向异性 As-deposited film Effective permeability Giant magnetoi

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采用射频溅射法在单晶硅衬底上制备了（Fe0.88Zr0.07B0.05）97Cu3薄膜样品。X射线衍射结果表明，未经任何后期处理的沉积态薄膜为非晶态结构。在5kHz～13MHz频率范围内，着重研究了沉积态样品的有效磁导率和巨磁阻抗（GMI）效应的变化特性。研究结果表明，样品具有极好的软磁性能和GMI效应，其矫顽力仅为58A／m，饱和磁化强度约为1．15×106A／m，在13MHz的频率下最大巨磁阻抗比达到17％。并发现有效磁导率比随外磁场的变化，在各向异性场仇。0．4kA／m处出现了峰值，GMI

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