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溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
来源 :光电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shengyu0128
【摘 要】
:
在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法,利用纯金属Zn靶,在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜。X射线衍射谱表明氮化锌具有(40O)择优取向,反方铁锰矿结构。研究了溅射功率对氮化锌薄
【作 者】
:
杨田林
贾绍辉
刘先平
宋淑梅
李延辉
辛艳青
王雪霞
【机 构】
:
山东大学威海空间科学与物理学院,威海蓝星玻璃股份有限公司,威海中玻光电有限公司
【出 处】
:
光电子技术
【发表日期】
:
2013年3期
【关键词】
:
氮化锌薄膜
磁控反应溅射法
结构特性
电学特性
光学特性
zinc nitride film
magnetron sputtering structural
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在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法,利用纯金属Zn靶,在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜。X射线衍射谱表明氮化锌具有(40O)择优取向,反方铁锰矿结构。研究了溅射功率对氮化锌薄膜结构、电学及光学性质的影响。
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