【摘 要】
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利用模板法制备了纳米管状SiO2,(T-SiO2),在此基础上合成了聚酰亚胺/T-SiO2杂化薄膜。采用透射电子显微镜和扫描电子显微镜对T-SiO2的形态进行了研究,用红外光谱分析了硅烷偶
【机 构】
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中国科学院理化技术研究所,中国科学院理化技术研究所
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利用模板法制备了纳米管状SiO2,(T-SiO2),在此基础上合成了聚酰亚胺/T-SiO2杂化薄膜。采用透射电子显微镜和扫描电子显微镜对T-SiO2的形态进行了研究,用红外光谱分析了硅烷偶联剂对杂化薄膜微观结构的影响,并讨论了偶联剂加入方式、用量等因素对杂化薄膜力学性能的影响。结果表明,所制备的SiO2主要为管口直径分布在100~500 nm,长径比在10-500的T-SiO2;在聚酰胺酸形成后,加入经偶联剂改性的T-SiO2,且偶联剂用量为填料质量的10％时,杂化薄膜的拉伸强度和弹性模量取得最佳值,分别为111.8 MPa和1.42 GPa。
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