论文部分内容阅读
采用自制的液位沉降制备薄膜装置在普通玻璃衬底上沉积了ITO薄膜，并对实验条件进行正交设计以考察制备ITO薄膜的最优条件。结果表明，采用液位沉降法成功地制备出ITO薄膜。该装置结构简单、操作方便。影响ITO薄膜光电性能的主要因素是镀膜层数，在进行的实验中，制备ITO薄膜的优化条件为：注射回抽速度为2．5cm／min，膜层数为20层，装置倾斜角度为30°，在300℃下预处理5min，500℃下退火处理2h，得到的薄膜的透光率为88．3％，方块电阻为970n／□。