【摘 要】
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针对当前模具结构化表面抛光难度大的问题，提出了一种新型的光整加工技术--化学辅助软性磨粒流抛光。阐述了化学抛光、软性磨粒流抛光的工作原理以及相互协调作用机理，对化学抛
【机 构】
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特种装备制造与先进加工技术教育部/浙江省重点实验室（浙江工业大学）,杭州师范大学钱江学院
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针对当前模具结构化表面抛光难度大的问题，提出了一种新型的光整加工技术--化学辅助软性磨粒流抛光。阐述了化学抛光、软性磨粒流抛光的工作原理以及相互协调作用机理，对化学抛光液中各组分的抛光作用进行分析，探讨了软性磨粒流中流体的速度、磨粒的粒径与体积含量3个主要工艺参数对材料去除率的影响规律，提出固液两相流场的数值模拟、环保型化学液的配置以及理论模型的建立是3个关键技术，最后对化学辅助软性磨粒流抛光应用前景进行展望。
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