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采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜.利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析.结果表明:薄膜的介电常数εr在2.07～2.65之间,绝缘电阻在245 MΩ左右,击穿场强在2.1 MV/cm以上,它们与膜内F的含量密切相关.
氟化类金刚石薄膜介电性能研究
【摘 要】
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采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜.利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析.结果表明:薄膜
【机 构】
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桂林理工大学,理学院,广西,桂林,541004
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2010年5期
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