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综述近年来一些先进国家利用真空微电子技术开发场发射平板显示器件研究的情况，概述这类器件的结构、工作原理、制作工艺、性能特点与发展水平，市场竞争与预测。
场发射平板显示器件
【摘 要】
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综述近年来一些先进国家利用真空微电子技术开发场发射平板显示器件研究的情况，概述这类器件的结构、工作原理、制作工艺、性能特点与发展水平，市场竞争与预测。
【机 构】
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北京真空电子技术研究所
【出 处】
：
真空电子技术
【发表日期】
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1994年2期
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