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期刊论文
气体离化团束溅射研究
气体离化团束溅射研究
来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sdgxsgl123
【摘 要】
:
研究了CO2,Ar离化团束对不同金属系统对及SiO2表面的溅射效应。离化团束的溅射产额比之单体离了束高100倍以上。气体离化团束的高溅射产量额可能是由于多体碰撞,侧向溅射及高能量密度的照射
【作 者】
:
田民波
山田公
【机 构】
:
清华大学材料科学与工程系
【出 处】
:
真空科学与技术
【发表日期】
:
1997年3期
【关键词】
:
团束
溅射产额
剂量
侧向溅射
气体离化
Cluster
Sputtering yield
Dose
Lateral sputtering
Angular d
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研究了CO2,Ar离化团束对不同金属系统对及SiO2表面的溅射效应。离化团束的溅射产额比之单体离了束高100倍以上。气体离化团束的高溅射产量额可能是由于多体碰撞,侧向溅射及高能量密度的照射引起的。
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