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为了得到碳纳米管场发射器件的三极结构，设计了一种新型栅极．在电极的制作过程中使用普通的丝网印刷方法，然后运用化学刻蚀的手段进行双面刻蚀制备出带有小孔阵列的栅极．在栅极制作过程中通过改变酸液刻蚀的时间和浓度，可以腐蚀出不同形状的小孔．运用扫描电镜（SEM）和红外光谱（瓜）分析，得到小孔的尺寸、形貌和刻蚀液的成份，然后在三极结构上加电压显示出孔的亮度图像，最后对器件结构进行模拟，算出在电场条件下的电子从阴极拉到阳极基板的轨迹、模拟结果和实验结果一致，从而实现了对场发射三极器件的优化、