ZnO薄膜p型掺杂的研究进展

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhangxing0828

【摘要】

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ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,具有许多优异的性能.但由于ZnO存在诸多的本征施主缺陷(如空位氧Vo和间隙锌Zni),对受主产生高度自补偿作用,天然为n型半导体,难以实现p型

【作者】

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叶志镇张银珠徐伟中吕建国

【机构】

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浙江大学硅材料国家重点实验室

【出处】

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无机材料学报

【发表日期】

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2003年1期

【关键词】

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研究进展 ZNO薄膜 P型掺杂氧化锌半导体 zinc oxide thin film p-type ZnO property

【基金项目】

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国家重点基础研究发展计划(973计划)，国家自然科学基金

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ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅵ族半导体材料,具有许多优异的性能.但由于ZnO存在诸多的本征施主缺陷(如空位氧Vo和间隙锌Zni),对受主产生高度自补偿作用,天然为n型半导体,难以实现p型转变.ZnO薄膜p型掺杂的实现是ZnO基光电器件的关键技术,也一直是ZnO研究中的主要课题,目前已取得重大进展,文章对此进行了详细阐述.

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