【摘 要】
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美国科学家开发出热蘸笔纳米光刻技术,可在多种材料表面精确构造和种植出纳米结构。美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用,据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能
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美国科学家开发出热蘸笔纳米光刻技术,可在多种材料表面精确构造和种植出纳米结构。美国科学家首次厘清了温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用,据此研制出的热蘸笔纳米光刻技术能在物质表面构造大小为20纳米的结构。借助这一技术,科学家们能廉价地在多种材料表面构造和种植出纳米结构,用以制造电路和化学
US scientists developed a thermal dip pen photolithography technology that accurately structures and grows nanostructures on a wide range of material surfaces. For the first time, scientists in the United States have clarified the role of temperature in pen dipping. The thermal dip pen photolithography developed in this way can construct structures with a size of 20 nanometers on the material surface. With this technology, scientists can cheaply fabricate and grow nanostructures on a variety of materials to create circuits and chemistries
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