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利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对薄膜质量的影响，得到了制作TFT器件中优质金属电极的工艺参数。
TFT阵列金属电极的制备与性能
【摘 要】
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利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对
【机 构】
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北方液晶工程研究开发中心，吉林长春 130021中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春 130021;
【出 处】
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液晶与显示
【发表日期】
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2000年4期
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