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采用Ｘ射线光电子能谱分析技术研究了直流磁控反应溅射法制备的氧化镍电致变色薄膜初始态，漂记和着色态的表面和经氩离子枪剥离后的内部组成与化学状态。并对测试结果进行了分析和讨论。
氧化镍电致变色薄膜的XPS研究
【摘 要】
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采用Ｘ射线光电子能谱分析技术研究了直流磁控反应溅射法制备的氧化镍电致变色薄膜初始态，漂记和着色态的表面和经氩离子枪剥离后的内部组成与化学状态。并对测试结果进行了分析
【机 构】
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东南大学薄膜研究所
【出 处】
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东南大学学报
【发表日期】
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1997年1期
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