自掩膜光刻工艺研究及在PSS产品中的应用

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本文研究了采用普通的接触式光刻机采制作PSs产品,并且使光刻出的Pss具有与stepper光刻机相同的效用,研究结果表明,通过开发出的自掩膜光刻工艺技术可以制作出与stepper光刻机相同规格的PSS产品。并将其制作成大功率LED器件.封装后在100mA电流驱动下率出光效率都达到了991m/w。
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