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多弧离子镀(Ti,W)xN合涂层组织与性能
多弧离子镀(Ti,W)xN合涂层组织与性能
来源 :材料工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:vvlioo
【摘 要】
:
采用Ti/W复合靶用多弧离子镀技术沉积了(Ti,W)xN合金涂层,并对该涂层的组织与性能进行了研究。结果表明,涂层组织致密,孔隙率极低,主要结构为(Ti,W)2n,并具有较高的显微硬度和抗氧
【作 者】
:
曾鹏
胡社军
等
【机 构】
:
广东工业大学材料能源学院
【出 处】
:
材料工程
【发表日期】
:
2000年9期
【关键词】
:
多弧离子镀
(Ti
W)xN涂层
组织性能
成分离析
气相沉积
合金涂层
超硬涂层
multiarc ion plating(Ti
W)xN coating m
【基金项目】
:
广东省高教厅基金,,广东工业大学重点学科资助
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采用Ti/W复合靶用多弧离子镀技术沉积了(Ti,W)xN合金涂层,并对该涂层的组织与性能进行了研究。结果表明,涂层组织致密,孔隙率极低,主要结构为(Ti,W)2n,并具有较高的显微硬度和抗氧化性。在沉积过程中存在着多元合金涂层与复合靶的成分离析现象,这与靶材的结构有关。
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