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为了制备具有紫外光电特性的TiO2薄膜,采用直流磁控溅射（DC）的方法在不同温度的玻璃基片上制备了TiO2薄膜。通过用X射线衍射（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、X-射线能谱仪（EDS）测试薄膜的晶体结构、表面形貌和薄膜组成成分。结果表明：当基片温度在250℃及以上时,制备出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜,并且有较好化学计量比。TiO2薄膜电阻在紫外光照射下的响应时间随基片温度的升高而减少。