【摘 要】
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通常熟知的去污办法,是使用水、药物和超声波等进行清洗。而今出现一种“光精密清洗”的全新的理想装置。即,日本Vshio电机公司的光清洗机FOTOLEX,它是一种利用紫外线能量,
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通常熟知的去污办法,是使用水、药物和超声波等进行清洗。而今出现一种“光精密清洗”的全新的理想装置。即,日本Vshio电机公司的光清洗机FOTOLEX,它是一种利用紫外线能量,以分子级形式对半导体等表面的沾污进行清洗的装置。
Commonly known decontamination methods are the use of water, drugs and ultrasonic cleaning. Now a kind of “optical precision cleaning” of the new ideal device. That is, Japan’s Vshio Motor Corporation’s light cleaning machine FOTOLEX, which is a use of ultraviolet energy, molecular level form on the surface of semiconductor devices such as contamination cleaning.
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