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使用高精密质量吸附仪（IGA-100，HIDEN）测定了CH4和N2纯组分在炭分子筛上于298、313和328 K温度下的吸附等温线及吸附动力学曲线，研究了CH4和N2在炭分子上的吸附热力学及动力学性质。选择Double Langmuir模型（DL）对吸附等温线数据进行了模拟；选择Fick扩散模型进行了吸附动力学的模拟。结果表明，DL模型可以准确地描述CH4和N2在炭分子筛上的吸附，拟合相关系数都非常接近1，N2在该炭分子筛上的吸附量大于CH4的吸附量；通过Fick扩算模型计算得：24N CH/7.26D