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通过正交实验，以Ta2O3为初始膜料，采用离子源辅助电子束蒸发技术制备了Ta2O5光学薄膜。透射光谱显示，所制备的Ta2O3学薄膜具有较高的透射率，极值点透射率约为93％，接近K9玻璃基片的透射率。极差分析表明，基片温度和离子源氧气流量是影响薄膜透射率的两个主要因素，而沉积速率的影响很小。分析了各制备参数对Ta2O5薄膜光学性能的影响，得到了采用离子源辅助电子束蒸发制备Ta2O5光学薄膜的最佳工艺参数。